el Proyecto de Pat Gelsinger Después de Salir de Intel

POR: REDACCIÓN

Los equipos de fotolitografía que diseña y produce la compañía neerlandesa ASML son extraordinariamente complejos. Estas máquinas de fabricación de circuitos integrados tienen muchos componentes sofisticados, pero uno de los más avanzados es, sin lugar a dudas, la fuente de luz ultravioleta. Su propósito es generar la radiación de ultravioleta extremo (UVE) necesaria para transportar el patrón geométrico que contiene el diseño de los chips hasta la oblea de silicio.

Muy a grandes rasgos esta fuente de luz genera la radiación UVE utilizando láseres de alta potencia capaces de calentar instantáneamente decenas de miles de diminutas gotas de estaño en un solo segundo hasta que alcanzan una temperatura de medio millón de grados Celsius. Esta interacción produce un plasma extremadamente caliente que emite luz ultravioleta con una longitud de onda de 13,5 nm. Parece una estrategia relativamente sencilla, pero no lo es en absoluto. De hecho, la fuente UVE es uno de los componentes disruptivos de ASML.
Pat Gelsinger se ha sumado al equipo de xLight

Curiosamente, para fabricar semiconductores de vanguardia empleando una tecnología de integración inferior a los 7 nm no es imprescindible utilizar una fuente de luz ultravioleta como la que acabo de describir. También se puede optar por otras aproximaciones. El prototipo de máquina de litografía UVE que, según las filtraciones, está probando Huawei en su laboratorio de Dongguan (China), emplea una fuente de luz ultravioleta de tipo LDP (descarga inducida por láser), y no de clase LPP (plasma generado por láser) como la que usa ASML.