China Acaba de dar un Paso de Gigante en la Fabricación de Chips

POR: REDACCIÓN

El esfuerzo que están haciendo los fabricantes de equipos de litografía chinos para desarrollar sus propias máquinas de vanguardia es titánico. Y, como cabe esperar, el Gobierno de Xi Jinping está respaldando a estas empresas con subvenciones multimillonarias. De hecho, a principios de septiembre de 2023 aprobó una partida de nada menos que 41.000 millones de dólares destinada, precisamente, a las compañías que producen los equipos involucrados en la fabricación de los circuitos integrados.

Una de estas empresas es Pulin Technology. Esta organización china ha apostado, al igual que Naura Technology, AMEC (Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China) o Piotech Inc., por desarrollar sus propias máquinas de fotolitografía de vanguardia. Y los logros van llegando poco a poco. El que acaba de firmar Pulin es impresionante debido a que, según DigiTimes Asia, ha enviado a uno de sus clientes su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología de litografía de nanoimpresión (se conoce como NIL por su denominación en inglés NanoImprint Lithography).
Sobre el papel esta máquina es una alternativa a los equipos UVE de ASML

Aún no conocemos con detalle las características del nuevo equipo de litografía desarrollado por Pulin, pero no importa. Y es que, en realidad, la tecnología NIL no es nueva. La compañía japonesa Canon tiene su propia solución NIL comercial desde hace años, y presumiblemente sus principios de funcionamiento son en esencia los mismos que los de la máquina diseñada por Pulin. Canon comenzó a trabajar en la litografía NIL en 2004. Trece años después, en 2017, entregó el equipo FPA-1200NZ2C, su primera máquina NIL funcional, a Toshiba para que fuese instalada en su planta de producción de chips de memoria de Yokkaichi, en Japón.